Ni2W2SiC納米復(fù)合涂層技術(shù)優(yōu)于原始

[文]納米SiC王金春等采用電沉積法制備Ni2W2SiC納米復(fù)合涂層，涂層表面光滑平整，顯微組織均勻致密，與純鎳涂層相比，顯微硬度明顯提高。研究了陰極電流密度對(duì)涂層沉積量和形貌的影響。劉艷軍發(fā)現(xiàn)，Ni2W2SiC納米復(fù)合涂層的顯微硬度遠(yuǎn)高于純金鎳涂層。 P.Gyftou等。通過(guò)脈沖電鍍獲得Ni2SiC復(fù)合涂層。通過(guò)比較1μm和20nm的SiC顆粒，納米SiC復(fù)合材料的晶體取向是一致的，前者是任意的。性能測(cè)量發(fā)現(xiàn)復(fù)合涂層具有耐磨性。耐腐蝕性與共沉積顆粒的尺寸，沉積的復(fù)合材料的量以及涂層的金屬相中的顆粒分布有關(guān)。 Benea等。還通過(guò)脈沖電鍍制備了Ni2SiC（初級(jí)粒徑20nm）復(fù)合涂層。發(fā)現(xiàn)納米SiC復(fù)合層的晶粒尺寸小于純鎳層，并且表面結(jié)構(gòu)受到納米SiC顆粒的干擾。鎳基質(zhì)晶體的生長(zhǎng)是無(wú)定形結(jié)構(gòu)。這表明添加的納米顆?？梢酝ㄟ^(guò)防止晶體生長(zhǎng)來(lái)增加成核數(shù)，從而獲得更小尺寸的涂層，其具有比普通鎳鍍層更好的耐磨性和耐腐蝕性。納米SiO2文獻(xiàn)，9gt，報(bào)道了采用脈沖電鍍法制備Ni2P2SiO2納米復(fù)合涂層，并與直流電鍍Ni2P涂層相比，發(fā)現(xiàn)前者結(jié)晶更細(xì)，空隙更少，硬度更高。同時(shí)研究了平均電流密度，脈沖時(shí)間，占空比，溫度，攪拌方式和SiO2（6~7nm）對(duì)涂層沉積速率，涂層硬度和SiO2含量的影響。通過(guò)正交試驗(yàn)確定。最好的工藝條件。 Co2納米金剛石復(fù)合涂層已應(yīng)用于發(fā)動(dòng)機(jī)級(jí)與摩托車氣缸復(fù)合涂層之間的密封。它可以承受500°C以上的高溫，使用壽命更長(zhǎng)。許多研究發(fā)現(xiàn)，與普通涂料相比，納米復(fù)合涂料具有兩種不同的相。納米粒子和基質(zhì)金屬是兩個(gè)不同的相。納米顆粒的存在使得基質(zhì)金屬的沉積和結(jié)晶更加精細(xì)甚至納米級(jí)。由于納米顆粒的獨(dú)特性質(zhì)，納米復(fù)合涂層具有更高的硬度和更好的耐腐蝕性，并且其性能通常隨著納米顆粒的粒度減小和沉積復(fù)合物的量增加而變得更大。優(yōu)秀。納米復(fù)合電鍍工藝影響涂層性能的因素電流密度在復(fù)合電鍍中，隨著電流密度的增加，復(fù)合涂層的沉積速率，納米粒子的復(fù)合量和涂層的硬度增加，并影響涂層的形態(tài)和組成均勻性。然而，當(dāng)電流密度達(dá)到一定值時(shí)，電流密度連續(xù)增加，并且納米顆粒的復(fù)合量和鍍層的硬度相當(dāng)?shù)汀Ｒ虼?，通過(guò)選擇合適的電流密度，可以制備具有良好形態(tài)，均勻組成和高硬度的合適的納米復(fù)合涂層。結(jié)論納米粒子的加入可顯著提高復(fù)合涂層的硬度和耐腐蝕性，節(jié)約材料，減少污染。因此，納米復(fù)合電鍍技術(shù)的研究和應(yīng)用具有廣闊的發(fā)展前景。由于對(duì)納米材料理解的局限以及復(fù)合電鍍工藝的不完善研究，納米復(fù)合電鍍技術(shù)的研究才剛剛開始。納米粒子和金屬粒子的共沉積機(jī)理，納米粒子在電鍍液中的穩(wěn)定性和分散性，如何增加復(fù)合涂層中納米粒子的含量，以及納米粒子在涂層中的行為與性能的關(guān)系。涂層必須進(jìn)一步深入研究。